原厂代理MOS管IRLML5103

MOS管工作原理--MOS管简介MOS管，即在集成电路中绝缘性场效应管。MOS英文全称为Metal-Oxide-Semiconductor即金属-氧化物-半导体，确切的说，这个名字描述了集成电路中MOS管的结构，即：在一定结构的半导体器件上，加上二氧化硅和金属，形成栅。MOS管的source和drain是可以对调的，都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下，两个区是一样的

晶体管性:N Channel 
漏电流, Id 大值:100mA 
电压, Vds 大:30V 
开态电阻, Rds(on):8ohm 
电压 @ Rds测量:4V 
电压, Vgs 高:20V 
功耗:200mW 
工作温度范围:-55°C to +150°C 
封装类型:SOT-323 
封装类型:SOT-323 
晶体管类型:Small Signal 
电压 Vgs @ Rds on 测量:4V 
电压, Vds 典型值:30V 
电流, Id 连续:10mA 
表面安装器件:表面安装 
阈值电压, Vgs th 典型值:1.5V

MOS管的工作原理(以N沟道增强型MOS场效应管)它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少，以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况，然后达到控制漏电流的目的。在制造管子时，通过工艺使绝缘层中出现大量正离子，故在交界面的另一侧能感应出较多的负电荷，这些负电荷把高渗杂质的N区接通，形成了导电沟道，即使在VGS=0时也有较大的漏电流ID。当栅电压改变时，沟道内被感应的电荷量也改变，导电沟道的宽窄也随之而变，因而漏电流ID随着栅电压的变化而变化。

按沟道材料型和绝缘栅型各分N沟道和P沟道两种;按导电方式：MOS管又分耗尽型与增强型，所以MOS场效应晶体管分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型类：N沟道消耗型、N沟道增强型、P沟道消耗型、 P沟道增强型。